硒靶材 高纯硒靶材溅射硒靶材 蒸发硒颗粒 Se颗粒

北京众诚新材科技专业从事高纯金属材料生产加工，采用区域熔炼法，真空熔炼法，热等静压烧结，电解精炼法提纯等工艺，高纯金属纯度达到99.9%-99.999%，产品品质高，使用效果稳定。

高纯单质金属溅射靶材（3N-5N）：铝靶Al、铬靶Cr、铜靶Cu、镍靶Ni、锆靶Zr、铬靶Cr、钛靶Ti、铝靶Al、锡靶Sn、钒靶V、锑靶Sb、铟靶、硼靶B、钨靶W、锰靶Mn、铋靶Bi、石墨靶C、硅靶Si、钽靶Ta、锌靶Zn、镁靶Mg、铌靶Nb、钼靶Mo等高纯单质金属溅射靶材。 
高纯陶瓷化合物溅射靶材（3N-4N）：ITO靶、AZO靶、IGZO靶、氧化镁靶MGO、氧化钇靶Y2O3、氧化铁靶Fe2O3、氧化镍靶Ni2O3、氧化铬靶Cr2O3、氧化锌靶ZnO、硫化锌靶ZnS、二硼化钛靶TiB2、氧化镁靶MgO、碳化硼靶BC、氮化硼靶BN、碳化硅靶SiC、三氧化二钇靶Y2O3、五氧化二钒靶V2O5、氧化锌靶ZnO、硫化锌靶ZnS、硫化钼靶MoS、硫化钨靶WS、氧化铝靶Al2O3、钛酸锶靶SrTiO3、五氧化二钽靶Ta2O5、五氧化二铌靶Nb2O5等高密度陶瓷溅射靶材。 
备注：众诚新材生产的陶瓷靶材采用先进的陶瓷生产工艺；惰性气体保护热等静压烧结技术，相对密度大于95-99％，可以提供靶材的金属化处理及绑定服务。

多元合金靶靶材（3N-4N）：镍钒合金靶Ni-V，镍铬合金靶Ni-Cr，钛铝合金靶Ti-Al，硅铝合金靶Si-Al，铜铟合金靶Cu-In，铜镓合金靶Cu-Ga，铜铟镓合金靶Cu-In–Ga，铜铟镓硒靶Cu-In–Ga-Se，锌铝合金靶Zn-Al，钨钛W-Ti，铁钴Fe-Co等高纯合金溅射靶材。 
备注：众诚新材生产的高纯合金溅射靶材：晶粒度小150-60um，相对密度高（99-99.9％），纯度高（99.9-99.99％），可以提供靶材的金属化处理及绑定服务。

高纯单质熔炼镀膜材料（纯度3N-5N，颗粒尺寸3*3mm、6*6mm、2*5mm等，丝材φ1.0mm、φ0.5mm等）：金Au、银Ag、铂Pt、钯Pd、铝Al、铬Cr、铜Cu、镍Ni、锆Zr、铬Cr、钛Ti、钴Co、锡Sn、钒V、锑Sb、铟In、硼B、钨W、锰Mn、铋Bi、硅Si、钽Ta、锌Zn、镁Mg、铌Nb、钼Mo等高纯单质金属颗粒。

陶瓷化合物蒸发颗粒（纯度3N-4N，尺寸1-3mm）：一氧化硅、二氧化硅、一氧化钛、二氧化钛、三氧化二钛、五氧化三钛、二氧化锆、二氧化铪、二氧化铈、三氧化钨、五氧化二钽、五氧化二铌、三氧化二钪、三氧化二铝、三氧化二铟、氧化镱、氧化锌、氧化镁、氧化钙、氧化铋、氧化铬、氧化镍、氧化铜、氧化铁、氧化钒、氟化镁、氟化钙、氟化镧、氟化镱、氟化钇、氟化钡、硫化物、硫化锌、硫化钙、硫化锑等陶瓷蒸发颗粒。